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三星电子去年研发投资创历史新高,达37万亿韩元

赵成俊 기자 2026-03-10 17:27
同比增长7.8%,专注于HBM4、2纳米工艺、Exynos等下一代半导体开发
三星电子平泽园区生产线
三星电子平泽园区生产线 [图片=联合新闻]

三星电子去年在研发上投入超过37万亿韩元,创下历史新高。这一投资增长7.8%,主要用于应对AI半导体市场的扩张和下一代存储器的竞争。

根据三星电子2025年业务报告,去年研发费用总计37.7548万亿韩元。尽管研发占销售额的比例略降至11.3%,但绝对投资规模显著增加。

三星电子特别在高带宽存储器(HBM)技术上投入大量研发资源。预计今年6代HBM市场将正式启动,三星自去年起就大力开发相关技术。

HBM是AI加速器和高性能计算系统的关键组件,主要客户包括英伟达和AMD等全球科技巨头。确保稳定的供应能力是市场竞争力的关键。

三星电子在HBM4产品中应用了领先的10纳米级6代(1c)DRAM工艺,性能比国际半导体标准组织(JEDEC)标准的8Gbps高出约46%,达到11.7Gbps。

上月,三星电子率先开始量产HBM4,预计将用于英伟达的下一代AI芯片“Vera Rubin”平台。

在非存储领域,三星电子也在加速技术竞争力的提升。其代工部门计划在今年下半年实现2纳米工艺的量产。

系统LSI部门则专注于提升移动应用处理器(AP)“Exynos”的竞争力。去年,三星对下一代移动芯片“Exynos 2600”进行了性能改进。

Exynos 2600的中央处理器(CPU)计算性能比前代提升了39%,生成型AI处理性能提高了113%。业内认为该芯片的性能接近高通的“骁龙8 Elite 5代”。

业内人士表示,随着AI半导体竞争加剧,存储和系统半导体的研发投资迅速增加。三星电子将在HBM、代工和移动AP等主要半导体领域继续扩大技术竞争力的投资。



※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。

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