中国启动生产浸没式DUV设备,半导体设备股大幅下跌
中国政府支持的企业已开始生产用于半导体制造的浸没式深紫外线(DUV)光刻设备,这一消息导致全球半导体设备股普遍大幅下跌。市场对中国半导体设备国产化进展的担忧抑制了投资情绪。 彭博社于27日(当地时间)援引美国信息技术媒体《信息》报道,总部位于上海的中国企业已开始生产其自主研发的浸没式DUV光刻设备,具体公司名称尚未公开。 光刻设备是利用光线在半导体晶圆(芯片基础的薄圆盘)上刻制微细电路的核心设备。浸没式DUV设备通过在镜头与晶圆之间注入水来更精确地绘制电路,目前市场由荷兰的ASML主导。 该中国企业计划今年生产5台设备,明年生产20台。今年的生产设备将供应给中国最大的代工厂中芯国际(SMIC)、华虹半导体以及DRAM厂商长鑫存储科技(CXMT)等。 然而,中国制造的设备仍处于初期生产阶段,性能和可靠性尚未达到ASML产品的水平。考虑到ASML去年出货了131台浸没式DUV设备,中国企业的生产规模仍然有限。 市场关注的焦点并非生产规模,而是中国开始自主生产先进光刻设备的这一事实。当天,荷兰股市中ASML股价暴跌8.4%,ASM国际下跌7.3%,BE半导体下跌9.9%。在美国股市,应用材料公司下跌6.7%,拉姆研究公司下跌7.9%。 由于美国主导的出口管制,中国无法进口ASML的最先进极紫外(EUV)光刻设备。高性能的浸没式DUV设备同样需要荷兰政府的出口许可。因此,中国正在推动光刻设备及其他半导体核心设备的国产化进程。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-07-28 17:52:00