据路透社29日援引匿名消息人士的报道，爱晟纳正在招募国内光刻机专家，致力于制造浸没式DUV光刻机。
爱晟纳成立于2023年8月，注册资本为70亿元人民币（约合1.5万亿韩元）。上海电气（SMEE）和上海市政府下属的上海国际信托各持有50%的股份，均为国有企业。路透社报道，爱晟纳吸纳了SMEE和宇量昇的光刻机开发团队。SMEE和宇量昇均为光刻机制造商，宇量昇被视为华为的关联公司，其母公司为半导体设备公司新凯来。
分析认为，中国在2023年成立爱晟纳并整合SMEE与宇量昇的开发团队，以加快国家层面的DUV设备开发进程。
此前，美国IT媒体《信息》在28日的报道中提到，中国的一家半导体设备公司正在制造浸没式DUV光刻机，预计今年将交付5台，明年将交付20台，但未透露该公司的名称。
此外，总部位于新加坡的Advantage Research Consulting创始人张盼表示：“如果中国能够制造DUV光刻机，那么突破7纳米半导体工艺技术只是时间问题。如果中国加速光刻机技术的开发，将对美国主导的全球半导体生态系统构成实质性威胁。”
※ 本报道经人工智能（AI）系统翻译与编辑。
